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    半導體廢水處理系統工藝特點

    來源:廢水回收處理 編輯:廢水處理設備 時間:2018-05-18 15:51 點擊:

      針對半導體生產廢水,萊特萊德半導體廢水處理系統通過膜生物反應器和三級處理系統,對半導體廢水進行處理,使之達到新的嚴格的環境規定,實際在工廠內的再次利用,不僅能有效地節約有限的水資源,而且能減少污水的排放,具有良好的經濟效益。

      半導體生產廢水主要來自車間的鍍槽、清洗水等,廢水中含有的主要污染物有:Ag、Cu、Ni、COD、SS、CN、酸堿等。半導體生產廢水排放量大,廢水污染物種類多,成份復雜,尤其是溶解固體和懸浮固體在含量、酸堿度和金屬雜質方面的差異,使半導體廢水回用對常規技術處理造成了挑戰。

      本系統通過膜生物反應器和三級處理系統,對半導體廢水進行處理,使之達到新的嚴格的環境規定,實際在工廠內的再次利用。本系統不僅能有效地節約有限的水資源,從而減輕對水資源的消耗,緩解日趨突出的用水緊張矛盾,而且能減少污水的排放,減輕對周圍水體的污染,改善人類居住環境。

      半導體廢水處理工藝特點:

      1、三低一零

      本系統淤泥產出量低、臭氣產出量低、能量需求量低,化學品需要量最小或為零。

      2、資源利用

      經本系統處理后的回用水,滿足嚴格的工廠回用水品質要求,可供應純水系統或直接回用到生產線。

      3、性價比高

      本系統操作便捷,抗沖擊負荷,占地緊湊,穩定性高,運轉成本低,經過大量成功案例驗證。

      萊特萊德公司的廢水處理采用高級氧化與微波前處理系統,結合DTRO核心膜組件應用,自主研發超微波膜法系統,有效提高膜元件通水量,濃水側利用微波導力分離膜片表面污染物,提高膜元件抗污染性能。HERO高回收率系統應用,針對高鹽量、高COD廢水膜系統回收率可達90%以上。

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